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CVD方法生长的薄膜材料一般纯度和致密性都很好,但是反应的源气、余气有毒。 CVD方法生长的薄膜材料一般纯度和致密性都很好,但是反应的源气、余气有毒。这是一个关于纯度 薄膜 半导体材料的相关问题,下面我们来看 分类:中国大学MOOC慕课 题型:选择题 查看答案
区熔可以重复多次,使杂质尽量被集中在头尾两端,提纯中部的材料,且熔区越长越好。 区熔可以重复多次,使杂质尽量被集中在头尾两端,提纯中部的材料,且熔区越长越好。这是一个关于杂质 头尾 半导体材料的相关问题,下面我们来看 分类:中国大学MOOC慕课 题型:选择题 查看答案