半导体硅的性能对于杂质非常敏感,一般通过提纯硅和有目的的掺杂来实现对性能的控制。

半导体硅的性能对于杂质非常敏感,一般通过提纯硅和有目的的掺杂来实现对性能的控制。这是一个关于目的 性能 半导体材料的相关问题,下面我们来看

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区熔的熔区移动速度越小,提纯效果越好。

区熔的熔区移动速度越小,提纯效果越好。这是一个关于速度 效果 半导体材料的相关问题,下面我们来看

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以下对于直拉生长描述错误的是()

以下对于直拉生长描述错误的是()这是一个关于晶体 拉出 半导体材料的相关问题,下面我们来看

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直拉硅晶体中的氢杂质一般是故意引入,一般没有电学性质。

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直拉硅中的金属杂质必须避免,它们扩散很快,可以形成复合体或者沉淀,对于硅晶体的电学性质有严重的危害。

直拉硅中的金属杂质必须避免,它们扩散很快,可以形成复合体或者沉淀,对于硅晶体的电学性质有严重的危害。这是一个关于电学 复合体 半导体材料的相关问题,下面我们来看

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