题目内容:
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆 D.不做处理,让患者把义齿戴走 E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
参考答案:
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆 D.不做处理,让患者把义齿戴走 E.腭杆组织面加自凝树脂重衬