单选题：关于集成电路布图设计保护条件，下列选项正确的是（）。

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题目类型：单选题
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题目内容：

关于集成电路布图设计保护条件，下列选项正确的是（）。 A．王某创作的集成电路布图设计可以是一个司空见惯的设计
B．赵某正在创作的集成电路布图设计现仅停留在构思状态，因其具有独创性，符合受保护的条件
C．刘某以一套操作方法的设计申请集成电路布图设计保护，因其具有独创性，符合受保护的条件
D．张某的集成电路布图设计是由常规设计组成的，其组合作为整体具有独创性，符合受保护的条件

参考答案：

答案解析：

根据《反不正当竞争法》及相关规定，下列关于侵犯商业秘密行为的法律责任的说法正确的是（）。

根据《反不正当竞争法》及相关规定，下列关于侵犯商业秘密行为的法律责任的说法正确的是（）。A．不是所有侵犯商业秘密的行为都应承担刑事责任

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在我国，保护商业秘密的法律依据不包括（）。

在我国，保护商业秘密的法律依据不包括（）。A．《反不正当竞争法》 B．《专利法》 C．《著作权法》 D．《商标法》 E．《反垄断法》

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我国《著作法权》规定的作品发表的含义是（）。

我国《著作法权》规定的作品发表的含义是（）。A．在具有书刊号的出版物上公开发表 B．向版权登记机关登记使用C符号 C．采取任何方式将作品

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关于注册商标与企业名称，下列说法错误的是（）。

关于注册商标与企业名称，下列说法错误的是（）。A．企业名称是区别不同企业的标志 B．一个企业可以使用多个商标，也可以使用多个企业名称 C

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如果丁公司通过法院拍卖获得“东南西北”注册商标，关于丁公司与乙公司的关系，下列说法正确的有（）。

如果丁公司通过法院拍卖获得“东南西北”注册商标，关于丁公司与乙公司的关系，下列说法正确的有（）。A．乙公司无须丁公司的许可，可继续使用“

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